چکیده مقاله
رسوب گذاری لایه نازک به روش های مختلف انجام می گیرد که هر کدام از آنها کاربردهای مختلفی در صنعت دارد در این مقاله به بررسی روشهای رسوب لایه اتمی ALD پرداخته شده است همچنین ابزارهای مدلسازی و کاربردهای آنها را شرح میدهد در ادامه ی این مطالعه، به بررس انواع و همچنین ویژگی ها، مزایا و کاربردهای روش رسوب لایه اتمی می پردازد
کلیدواژهها
رسوب اتمی (ALD) PEALD TERMAL - ALD رسوب اتمی ALD TERMAL ALD
نویسندگان
سید محمد علوی
دانشیار دانشگاه جامع امام حسین علیه السلام
جلایر فرزام
دانشجوی کارشناسی ارشد دانشگاه جامع امام حسین علیه السلام
شیوه ارجاع
�لوی، سیدمحمد و فرزام، جلایر،1402،رسوب لایه اتمی Atomic Layer Deposition،دومین همایش بین المللی مهندسی کامپیوتر، برق و تکنولوژی،همدان
ارائهشده در
مجموعه مقالات دومین همایش بین المللی مهندسی کامپیوتر، برق و تکنولوژی28 بهمن 1402 · همدان