بررسی لیتوگرافی و اچینگ در طراحی نیمه هادی های با کیفیت بهتر

چکیده مقاله

برای تولید مدار مجتمع از فیلم های باریک با مواد مختلف، به عنوان لایه های محافظ جهت افزودن و یا کشت اتم های ناخالصی و یا به عنوان عایق عیان مواد رسانا و سیلیکون زیر لایه استفاده می شود و ماسک ها شامل الگویی از پنجره هایی هستند که تحت فرایندی که فتولیتوگرافی خوانده می شود به روی سطح سیلیکون منتقل می شوند فتولیتوگرافی تعام مراحل درگیر در انتقال الگو از یک ماسک برروی سطح سیلیکون و بیقرراداراعی باشد یکی از شرایط و فرایند مهم تهیه و بیقرهای پاک در اتاق پاک و تمیز می باشد پاکسازی و بفر خود به قتهایی یک قرایند دقیقی را طلب می کند تمیزی سطح ویفر برای تنظیم ماسک جهت انجام پخت های نرم وسخت، ایجاد لایه محافظ بافتور زیست، تمیز کردن تعام پنجره ها، تابشی نور به فتور زیست،انجام مراحل مختلف اچینگ ودرنہایت حذف تمام فتور زیست هامی تواند مارادرطراحی ایک نیمه هاری خوب و با کیفیت بالاو هم چنین در تهیه یک عدار مجتمع قابل قبول و بهره برداری از آن برای پروژه های عظیم الکترونیکی یاری نماید در صورت اجرای دقیق شرایط ۱۰گانه فرآیند لیتوگرافی یک نیمه هادی با کیفیت قابل قبول می توان ارائه داد

کلیدواژه‌ها

نویسندگان

سیدجواد جوادی مقدم

عضو هیئت علمی دانشگاه پیام نور

علی اکبری مجد

دانشجوی کارشناسی ارشد شده الکترونیک دانشگاه پیام نور تهران تهران شمال

�وادی مقدم، سیدجواد و اکبری مجد، علی،1395،بررسی لیتوگرافی و اچینگ در طراحی نیمه هادی های با کیفیت بهتر،دومین کنفرانس بین المللی یافته های نوین پژوهشی در مهندسی برق و علوم کامپیوتر،رامسر

ارائه‌شده در

مجموعه مقالات سومین کنفرانس سراسری نوآوری های اخیر در مهندسی برق و کامپیوتر19 شهریور 1395 · تهران