چکیده مقاله
دراین تحقیق ما تاثیر PH را برروی جوانه زنی و رشد نیکل ز حمامهای وات با PH مختلف برروی Si n111 مورد مطالعه قرار داده ایم نتایج ولتامتری سیکلی و جریان گذرا ثبت شده در طی لایه نشانی الکتروشیمیایی نیکل روی Si n111 برای ارزیابی نشست الکتروشیمیایی نیکل استفاده شده است نتایج نشان دادند که نیکل از پتانسیل اسمی V 0 7 شروع به رشد برروی Si n111 می کند با افزایش سرعت جاروب منحنی های ولتامتری سیکلی باعث انتقال پیکهای احیای نیکل به سمت مقادیر منفی تر می شوند نتایج نشان دادند که با کاهش PH جوانه زنی با سرعت بیشتری صورت گرفته در نتیجه جوانه های ریز کمتر از 100 nm بدست آمده و لایه های نازک نیکل برروی زیرلایه تشکیل می شود
کلیدواژهها
نویسندگان
سیدمهدی جان جان
دانشجوی کارشناسی ارشد دانشکده مهندسیمواد
فرزاد نصیرپور
استادیار دانشکده مهندسیمواد
شیوه ارجاع
�ان جان، سیدمهدی و نصیرپور، فرزاد،1389،تاثیر PH برروی لایه نشانی الکتروشیمیایی لایه های نازک نیکل روی Si+n111،یازدهمین کنفرانس ملی مهندسی ساخت و تولید ایران،تبریز
ارائهشده در
مجموعه مقالات یازدهمین کنفرانس ملی مهندسی ساخت و تولید ایران27 مهر 1389 · تبریز