چکیده مقاله
این مقاله به بررسی رویکردهای پولیش در مقیاس اتمی و نزدیک به اتمی می پردازد و روش های مختلفی از جمله پولیش مکانیکی شیمیایی CMP ، پولیش به کمک پالسما PAP ، وروش های بدون تغییر شیمیایی مانند ماشینکاری انتشار الستیک EEM را معرفی می کند این روش ها بر مبنای کاهش زبری سطح تا زیر نانومتر و حتی مقیاس آنگستروم طراحی شده اند کاربرد های صنعتی شامل بهبود کیفیت سطح در صنایع نوری، الکترونیک و اپتیک است همچنین چالش هایی مانند هزینه بالا، بهینه سازی فرآیندها و محدودیت در پردازش سطوح پیچیده نیز مورد بحث قرار گرفته اند آینده این فن آوری ها به بهبود تعادل میان کارایی، دقت و هزینه وابسته است
کلیدواژهها
پولیش زبری زیر نانومتر سایش مکانیکی
نویسندگان
مهسا مهتابیان
دانشجوی کارشناسی ارشد گروه مهندسی شیمی، واحد شهرضا، ایران
فریبا سلطان الکتابی
استادیار گروه مهندسی شیمی، واحد شهرضا، دانشگاه آزاد اسلامی، شهرضا، ایران
شیوه ارجاع
مهتابیان، مهسا و سلطان الکتابی، فریبا،1403،رویکرد های نوین پرداخت سطح در مقیاس نانومتری و اتمی،هشتمین کنفرانس بین المللی توسعه فناوری در مهندسی شیمی،تهران
ارائهشده در
مجموعه مقالات هشتمین کنفرانس بین المللی توسعه فناوری در مهندسی شیمی30 بهمن 1403 · تهران