بهینه سازی پارامترهای لیزر فرابنفش در میکرولیتوگرافی لیزری برای کمینه سازی اندازه پرتو لیزر روی فتورزیست شیپلی

چکیده مقاله

این پژوهش بر توسعه و بهینه سازی پارامترهای یک دستگاه میکرولیتوگرافی لیزری مستقیم با هدف ایجاد ریزالگوهای با دقت بالا بر روی لایه حساس به نور فتورزیست شیپلی تمرکز دارد با توجه به ماهیت دست ساز بودن دستگاه، فرآیند کالیبراسیون و بهینه سازی پارامترهای کلیدی نظیر تمرکز لیزر، توان و سرعت از اهمیت بالایی برخوردار بود در ابتدا به دلیل ملاحظات اقتصادی و فنی کالیبراسیون اولیه بر روی یک لامینت به عنوان زیرلایه جایگزین انجام گرفت نتایج این مرحله نشان داد که نقطه تمرکز لیزر بهینه دستگاه با هر بار خاموش و روشن شدن تغییر می کند که این امر چالشی جدی برای تکرارپذیری آزمایش ها ایجاد می کرد برای غلبه بر این چالش، با شناسایی و کنترل این متغیر از طریق تنظیم دستی عدد تمرکز لیزر در نرم افزار، یک پروتکل استانداردسازی ایجاد شد این رویکرد قابلیت تکرارپذیری نتایج را به طور چشمگیری بهبود بخشید که با مقایسه نمونه های ایجاد شده در شرایط یکسان به اثبات رسید سپس با استفاده از پارامترهای بهینه به دست آمده از مرحله کالیبراسیون، آزمایش های اصلی روی فتورزیست شیپلی صورت گرفت نتایج بهینه سازی نهایی نشان داد که بهترین کیفیت و وضوح الگو با ترکیب توان ۵۰ و عدد تمرکز لیزر ۹۵ به دست می آید؛ مقادیری که با مشاهدات روی لامینت نیز همخوانی داشتند این یافته ها نه تنها به اثبات امکان پذیری تولید ریزساخت ها با استفاده از تجهیزات ساده تر می پردازد بلکه یک روش عملی برای کالیبراسیون دقیق سیستم های لیتوگرافی را ارائه می دهد

کلیدواژه‌ها

نویسندگان

حانیه سادات حسینی

دانشکده مهندسی مکانیک دانشگاه صنعتی اصفهان، اصفهان، ایران

علی مالکی

دانشکده مهندسی مکانیک دانشگاه صنعتی اصفهان، اصفهان، ایران

علی سهیلی

دانشکده مهندسی مکانیک دانشگاه صنعتی اصفهان، اصفهان، ایران

�سینی، حانیه سادات و مالکی، علی و سهیلی، علی،1404،بهینه سازی پارامترهای لیزر فرابنفش در میکرولیتوگرافی لیزری برای کمینه سازی اندازه پرتو لیزر روی فتورزیست شیپلی،بیست و دومین همایش ملی و یازدهمین کنفرانس بین المللی مهندسی ساخت و تولید ایران،تهران

ارائه‌شده در

یازدهمین کنفرانس بین المللی بررسی مسائل جاری زبان ها، زبان شناسی، ترجمه و ادبیات13 بهمن 1404 · اهواز