ویفر سیلیکونی

بررسی نقش بازپخت حرارتی سریع (RTA) در بهبود خواص الکتریکی ویفرهای سیلیکونی پس از کاشت یون

کاشت یون به عنوان یکی از فرآیندهای کلیدی در فناوری ساخت ادوات نیمه هادی، به منظور کنترل دقیق نوع و غلظت ناخالصی ها در ویفرهای سیلیکونی به کار گرفته م…

تحولات فناورانه و بررسی عملکرد دستگاه کاشت یون در مهندسی نیمه رسانا

در فرآیند ساخت نیمه رساناها، فناوری کاشت یون به عنوان یکی از ارکان بنیادین در مهندسی مواد و طراحی مدارهای مجتمع شناخته می شود دستگاه کاشت یون، که در…